Vakuumanlagen in der Chemie- und Pharmaindustrie

Vakuum ist für viele chemische Prozesse eine Grundvoraussetzung. Es wird unter anderem in Destillation, Kristallisation, Filtration und Hilfsprozessen eingesetzt. 

Technisches Beispiel einer Dampfstrahlvakuumanlage

Dampfstrahlvakuumanlage
Dampfstrahlvakuumanlage

Hauptbestandteile:

  • ein Anfahrtsstrahler
  • zwei Betriebsdampfstrahler
  • ein Zwischenkondensator
  • ein Schalldämpfer
  • ein Sicherheitsventi
  • lMess- und Regeltechnik

Die Dampfstrahlvakuumanlage arbeitet nach dem Venturi-Prinzip. In den Ejektoren befindet sich eine Querschnittsverengung, nach der Bernoulli-Gleichung entsteht in einer durchströmten Düse ein Unterdruck.
An dieser Stelle wird eine zweite Saugöffnung angebracht, in welcher das Vakuum erzeugt wird.

Im genannten Beispiel ist die Dampfstrahlvakuumanlage Bestandteil eines Turbinenkondensators und soll das Vakuum am Auslass der Turbine erzeugen damit diese wirtschaftlicher arbeitet.

Technisches Beispiel von einem Flüssigkeitsringvakuumpumpstand

Flüssigkeitsringvakuumpumpstand
Flüssigkeitsringvakuumpumpstand

Der Flüssigkeitsringvakuumpumpstand ist zum Fördern Methylenchlorid gesättigter Luft bei einem Prozessdruck von 500mbar (abs.) und Volumenstrom 700m3/h ausgelegt. Er ist auf Basis einer ZLR-D800XX mit Abscheider, Rohrbündelwärmetauscher, doppeltwirkender Gleitringdichtung Burgmann mit Spülsystem, Steuerung, Mess- sowie Regeleinrichtung und Verrohrung. Alle Bauteile sind aus Edelstahl 1.4571 gefertigt und sind laut ATEX eigensicher ausgelegt.

Sämtliche Komponenten sind auf einem Grundrahmen anschlussfertig montiert, eingestellt und getestet. Durch den Grundrahmen kann der gesamte Flüssigkeitsringvakuumpumpstand mittels Kranösen aber auch durch eine Gabelstapler transportiert sowie aufgestellt werden.

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